上海金畔生物科技有限公司可提供各类化合物陶瓷靶材和镀膜材料，产品包含氧化物、氟化物、氮化物、碳化物、硼化物、硫化物、硅化物、硒化物、碲化物、磷化物以及各类混合掺杂物，纯度99.5%-99.999%，适合磁控溅射镀、热蒸镀、电子束蒸镀，产品广泛应用于各类半导体行业、太阳能光伏光热行业、建筑、装饰、汽车、平面显示、LCD、LED、集成电路，元器件、磁记录、装饰、工具镀膜、航空航天、军工、科研等领域。

靶材是制备薄膜的主要材料之一，主要应用于集成电路、平板显示、太阳能电池、记录媒体、智能玻璃等，对材料纯度和稳定性要求高。陶瓷靶材作为非金属薄膜产业发展的基础材料，已得到空前的发展，靶材市场规模日益膨胀。

陶瓷靶材的种类：

    （1）按应用来分，可分为半导体关联陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、磁记录陶瓷靶材、光记录陶瓷靶材、超导陶瓷靶材、巨磁电阻陶瓷靶材等。

    （2）按化学组成，可分为氧化物陶瓷靶材、硅化物陶瓷靶材、氮化物陶瓷靶材、氟化物陶瓷靶材和硫化物陶瓷靶材等。其中平面显示ITO陶瓷靶材国内已广泛生产应用。高介电绝缘膜用陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材具有广阔的应用前景。

溅射陶瓷靶材的制备方法：常用的成型方法有干压成型、冷等静压成型等。冷等静压成型由于具有坯体密度高而且均匀，磨具制作方便，成本较低等优点，故而成为常用的成型方法。陶瓷靶材的烧结常采用常压烧结、热压烧结及气氛烧结等方法。

 陶瓷靶材的特性要求：

    （1）纯度：陶瓷靶材的纯度对溅射薄膜的性能影响很大，纯度越高，溅射薄膜的均匀性和批量产品的质量的一致性越好。

（2）密度：为了减少陶瓷靶材的气孔，提高薄膜性能，要求溅射陶瓷靶材具有高密度。靶材越密实，溅射颗粒的密度月底，放电现场就越弱，薄膜的性能也越好。

    （3）成分与结构均匀性：为保证溅射薄膜均匀，尤特在复杂的大面积镀膜应用中，必须做到靶材成分与结构均匀性好。

上海金畔生物科技有限公司可根据客户要求定制各种金属靶材，多种形态（平面靶、多弧靶、旋转靶及其它异形靶材），纯度，包装从克至吨级的高纯金属单质。

以下是客户经常购买的陶瓷溅射靶材产品目录

硫化镉(CdS)陶瓷溅射靶材

硫化铁(FeS)陶瓷溅射靶材

硫化锰(MnS)陶瓷溅射靶材

硫化钽(TaS)陶瓷溅射靶材

硫化镁(MgS)陶瓷溅射靶材

硫化铜(CuS)陶瓷溅射靶材

硫化铅(PbS)陶瓷溅射靶材

硫化铌(NbS)陶瓷溅射靶材

硫化钨(WS2)陶瓷溅射靶材

硫化锑(Sb2S3)陶瓷溅射靶材

硫化铈(Ce2S3)陶瓷溅射靶材

硫化钼(MoS2)陶瓷溅射靶材

硫化铟(In2S3)陶瓷溅射靶材

硫化锌(ZnS)陶瓷溅射靶材

氧化铝(Al2O3)陶瓷溅射靶材

四氧化三铁Fe3O4陶瓷溅射靶材

镍酸镧(LaNiO3)陶瓷溅射靶材

氧化钪(Sc2O3)陶瓷溅射靶材

氧化锌铝(AZO)陶瓷溅射靶材

氧化锡氟(FTO)陶瓷溅射靶材

铁酸镧(LaFeO3)陶瓷溅射靶材

钛酸锶(SrTiO3)陶瓷溅射靶材

氧化锡锑(ATO)陶瓷溅射靶材

氧化镓(Ga2O3)陶瓷溅射靶材

锰酸镧(LaMnO3)陶瓷溅射靶材

钌酸锶(SrRuO3)陶瓷溅射靶材

氧化铋(Bi2O3)陶瓷溅射靶材

氧化镓锌(GZO)陶瓷溅射靶材

氧化镁(MgO)陶瓷溅射靶材

锰酸锶(SrMnO3)陶瓷溅射靶材

钛酸铋(BiTiO3)陶瓷溅射靶材

氧化钆(Gd2O3)陶瓷溅射靶材

氧化钼(MoO3)陶瓷溅射靶材

二氧化钛(TiO2)陶瓷溅射靶材

钛酸钡(BaTiO3)陶瓷溅射靶材

二氧化铪(HfO2)陶瓷溅射靶材

氧化铌(Nb2Ox)陶瓷溅射靶材

五氧化三钛Ti3O5陶瓷溅射靶材

氧化铈(CeO2)陶瓷溅射靶材

氧化钬(Ho2O3)陶瓷溅射靶材

氧化镍(NiO)陶瓷溅射靶材

氧化钽(Ta2O5)陶瓷溅射靶材