酞菁 |光电材料|UDP 糖|酞菁锰及其石墨烯量子点共轭物:合成、表征、电化学、光谱电化学、电聚合和电致变色

通过π-π叠加将该配合物与石墨烯量子点(GQDs)共轭,并通过能量色散x射线光谱(EDX)、透射电子显微镜(TEM)、能量色散光谱和x射线衍射对其进行了表征。采用循环伏安法(CV)、方波伏安法(SWV)和光谱电化学(SEC)研究了纳米二氧化氮及其偶联物的电化学性能,以确定咔唑取代基和石墨烯量子点对纳米二氧化氮氧化还原机理的影响。虽然咔唑类取代基对MnPc的还原过程没有显著影响,但咔唑类取代基的阳离子电聚合诱导MnPc在电极表面形成涂层。由石墨烯量子点和MnPc组成的复合材料表现出与MnPc相当的氧化还原反应。

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cas:150485-60-2|5,9,14,18,23,27,32,36-八丁氧基-2,3-萘酞菁钯 (II)

cas:757940-49-1|1,4,8,11,15,18,22,25-八丁氧基-29H,31H-酞菁磷(IV)

四叔丁基酞菁硅水合物|CAS号: 85214-70-6

二氧化硅包覆菁染料壳核型纳米颗粒

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