PCL|PLA|PLGA|PS纳米纤维网格滤片150nm 厚度600um 直径3/8cm 网格空隙200um

PCL|PLA|PLGA|PS纳米纤维网格滤片150nm 厚度600um  直径3/8cm  网格空隙200um

上海金畔生物科技有限公司经营的产品种类包括有:合成磷脂、石墨烯、高分子聚乙二醇衍生物、嵌段共聚物、磁性纳米颗粒、纳米金及纳米金棒、钙钛矿、近红外荧光染料、活性荧光染料、静电纺丝、荧光标记的葡聚糖BSA和链霉亲和素、蛋白交联剂、静电纺丝纤维膜、小分子PEG衍生物、钙钛矿基础和定制产品、MAX相陶瓷化学产品、光刻胶、树枝状聚合物、环糊精衍生物、发光材料、金属配合物发光材料、石墨炔(graphyne)大环配体类、蛋白交联剂,荧光量子点、透明质酸衍生物、石墨烯或氧化石墨烯、碳纳米管、富勒烯,二氧化硅及介孔二影产品,荧光蛋白及荧光探针等等。氧化硅,聚合物微球,近红外荧光染料,聚苯乙烯微球,上转换纳米发光颗粒,MRI核磁造.

循环使用的纳米纤维过滤网

     实用新型循环使用的纳米纤维过滤网及其制备装置,其中纳米纤维过滤网包括有支撑架,过滤支撑网格和纳米纤维膜,所述支撑架用于支撑过滤支撑网格,所述支撑架和过滤支撑网格均由非导电材料制成,所述纳米纤维膜喷印于网格上.

     本实用新型采用静电纺丝快速制备高效过滤膜,实现不同功能纳米纤维膜的喷印;相比金属网格支架,可实现纳米纤维膜的均匀沉积,不需要采用转印技术,可即时喷印使用,因此可对支撑架和过滤支撑网格重复利用,减小环境污染;还可结合图像处理实现对不同支撑架和过滤支撑网格的喷印,从而能实现低成本,个性化的定制.

    本实用新型作为一种循环使用的纳米纤维过滤网及其制备装置可应用于静电纺丝技术领域.

PCL|PLA|PLGA|PS纳米纤维网格滤片150nm 厚度600um  直径3/8cm  网格空隙200um

PS纳米纤维网格滤片300nm(厚度:1000um)(直径3/8cm)(网格空隙:400um)

PS纳米纤维薄膜网格滤片150nm(厚度:1cm)(网格空隙:200um)

PS纳米纤维薄膜网格滤片300nm(厚度:1cm)(网格空隙:400um)

PS纳米纤维内嵌网格滤片150nm(厚度:600um)(孔数:6/12/24/48/96)(网格空隙:200um)

PLGA纳米纤维网格膜片150nm(厚度:600um)(直径:3/8cm)(网格空隙:200um

静电纺纳米纤维在组织工程支架领域中有重要的地位,其高的比表面积,有利于细胞粘附、增殖和分化,以及负载生长因子等生物信号因子;其合适的孔径和高的孔隙率,有利于细胞种植和细胞外基质的形成,氧气和营养物质的传输,代谢物的排放等。

静电纺乙交酯丙交酯共聚物(PLGA)制备细胞支架,认为静电纺纳米纤维与天然细胞外基质有着很相似结构,纳米纤维支架材料的孔为细胞提供了生长空间,高孔隙率为细胞生长提供了更多的结构空间,有利于支架与环境之间的营养交换及新陈代谢,这种支架材料有利于细胞粘附和增殖,并有良好的生物相容性,是理想的细胞支架。

PCL|PLA|PLGA|PS纳米纤维网格滤片150nm 厚度600um  直径3/8cm  网格空隙200um

PLGA纳米纤维网格膜片300nm(厚度:1000um)(直径:3/8cm)(网格空隙:400um)

PLGA纳米纤维薄膜网格膜片150nm(网格空隙:200um)

PLGA纳米纤维薄膜网格膜片300nm(网格空隙:400um)

PLGA纳米纤维内嵌网格膜片150nm(厚度:600um)(孔数:6/12/24/48/96)(网格空隙:200um)

PLA纳米纤维网格膜片150nm(厚度:600um)(直径:3/8cm)(网格空隙:200um

多级PLA复合纳米纤维膜的制备及其空气过滤性能

    采用静电纺丝技术制备出了多孔结构PLA纳米纤维(PLA-P)和超细PLA纳米纤维(PLA-U).并将PLA-P分别与PLA-U进行嵌入式和层级式复合,制备出质量比分别为5/1,4/1,3/1和2/1的PLA纳米纤维复合膜.复合膜的空气过滤性能测试结果表明,两种复合结构纤维膜对数量中值直径为75nm的氯化钠气溶胶颗粒的过滤效率均随复合膜中PLA-U含量的增大而增大,而且同等质量比的复合膜中,层级式复合膜的过滤性能优于嵌入式复合膜.其中质比为5/1的层级式PLA-P/PLA-U复合膜具有高效低阻的过滤性能,其在测试流量为25L/min时,对氯化钠气溶胶颗粒的过滤效率达99.999%,而压降仅为102.7Pa.

PCL|PLA|PLGA|PS纳米纤维网格滤片150nm 厚度600um  直径3/8cm  网格空隙200um

PLA纳米纤维网格膜片300nm(厚度:1000um)(直径:3/8cm)(网格空隙:400um)

PLA纳米纤维薄膜网格膜片150nm(网格空隙:200um)

PLA纳米纤维薄膜网格膜片300nm(网格空隙:400um)

PLA纳米纤维内嵌网格膜+片150nm(厚度:600um)(孔数:6/12/24/48/96)(网格空隙:200um)

PCL纳米纤维网格膜片150nm(厚度:600um)(直径:3/8cm)(网格空隙:200um

疏水性聚己内酯(PCL)纳米纤维膜的制备

通过蒸汽刻蚀法对静电纺丝制备的纳米纤维膜进行刻蚀,使微米相纤维产生纳米级的触角,成功制备疏水性聚己内酯(PCL)纳米纤维膜.同时研究了溶剂配比,刻蚀时间等因素对PCL纳米纤维膜刻蚀结果的影响规律.通过扫描电子显微镜(SEM),接触角测量仪分析不同条件对纤维膜表面形貌及其疏水性的影响.结果表明蒸汽刻蚀法不仅保持静电纺丝制备的超细纤维具有直径小比表面积大等优点,还由于纤维产生触角从而进一步增加比表面积,使纤维的疏水性得到提高.经过处理后的PCL纳米纤维膜的接触角从71°增加到149°

PCL|PLA|PLGA|PS纳米纤维网格滤片150nm 厚度600um  直径3/8cm  网格空隙200um

PCL纳米纤维网格膜片300nm(厚度:1000um)(直径:3/8cm)(网格空隙:400um)

PCL纳米纤维薄膜网格膜片150nm(网格空隙:200um)

PCL纳米纤维薄膜网格膜片300nm(网格空隙:400um)

PCL纳米纤维内嵌网格膜片150nm(厚度:600um)(孔数:6/12/24/48/96)(网格空隙:200um)