金属溅射靶材的生产工序、种类及应用领域介绍

上海金畔生物科技有限公司主营产品:溅射靶材(金属靶材、合金靶材、陶瓷靶材、氧化物靶材、氟化物靶材、硫化物靶材)、蒸发镀膜材料、基片材料、晶体材料、无机化合物材料、半导体材料、太阳能光伏材料、电子材料、金属粉末、氧化物粉末、贵金属材料、稀土材料、镀膜基片、坩埚等。

金畔金属溅射靶材生产工序

1、原材料 – 超高纯金属材料铸锭,切断,成分检查、不纯物检查

2、塑性变形材结晶过程 – 塑性加工,热处理,尺寸检查,取向检查

3、焊接 – 焊接强度检查,焊接结合率检查

4、机加

5、检测 – 尺寸检测,成分检测、外观检测

6、清洗、干燥、包装 (包装检查、文件检查)

7、出货

金属溅射靶材溅射原理示意

金属溅射靶材的生产工序、种类及应用领域介绍

金畔金属溅射靶材种类

1.根据形状可分为方靶,圆靶,异型靶

2.根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材

3.根据应用不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、超导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等

4.根据应用领域分为微电子靶材、磁记录靶材、光碟靶材、贵金属靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电极靶材、封装靶材、其他靶材

金畔高纯金属溅射靶材应用领域

1.半导体用金属靶材

半导体芯片用金属溅射靶材的作用,就是给芯片上制作传递信息的金属导线。具体的溅射过程:首先利用高速离子流,在高真空条件下分别去轰击不同种类的金属溅射靶材的表面,使各种靶材表面的原子一层一层地沉积在半导体芯片的表面上,然后再通过的特殊加工工艺,将沉积在芯片表面的金属薄膜刻蚀成纳米级别的金属线,将芯片内部数以亿计的微型晶体管相互连接起来,从而起到传递信号的作用。

2.集成电路产业中高纯金属靶材及其应用

晶圆制造 – 主要金属靶材系列Al、AlSi、AlCu、AlSiCu、W、Ti、WTi等,主要用于铝互联;Cu、CuAl、CuMn、Ta、Ru等,主要用于铜互联;W、Wsi、Ti、Co、NiPt等,主要用于规划无接触;Ti、Ta、TiAl等,主要用于金属栅。

3.溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。

上海金畔生物供应的纯金属单质靶材产品目录如下:

产品名 元素符号 纯度
钒靶材 V 3N
铁靶材 Fe 3N, 3N5, 4N
钴靶材 Co 3N5
银靶材 Ag 4N
钼靶材 Mo 3N5
铌靶材 Nb 3N5
钽靶材 Ta 3N5, 4N
钨靶材 W 3N5
镍靶材 Ni 3N, 3N6, 4N, 4N5, 5N
钛靶材 Ti 2N7, 4N, 4N5, 5N
铝靶材 Al 3N5, 4N, 4N6, 5N, 6N
铬靶材 Cr 2N5,3N5
铜靶材 Cu 3N5~6N
硅靶材 Si 3N~5N
铟靶材 In 4N5
镓靶材 Ga 5N
锡靶材 Sn 5N
锆靶材 Zr 2N7~5N
金靶材 Au 4N,4N5,5N
锂靶材 Li 3N
镁靶材 Mg 3N8,4N,5N
锌靶材 Zn 4N,4N5,5N
锰靶材 Mn 3N,3N5,4N
铒靶材 Er 2N5,3N,3N5
铂靶材 Pt 3N5,4N,4N5
锗靶材 Ge 5N
铱靶材 Ir 3N5
钌靶材 Ru 3N5
铼靶材 Re 3N5,4N
锇靶材 Os 3N,3N5
钯靶材 Pd 3N5
铑靶材 Rh 3N5,4N
钙靶材 Ca 2N5
钪靶材 Sc 4N,4N5
硒靶材 Se 4N,5N
锶靶材 Sr 2N5
钇靶材 Y 3N,3N5,4N
镉靶材 Cd 4N
锑靶材 Sb 4N,5N
碲靶材 Te 4N5,5N
钡靶材 Ba 3N
镧靶材 La 3N,3N5
铈靶材 Ce 3N5
镨靶材 Pr 3N5
钕靶材 Nd 3N5
钐靶材 Sm 3N5
铕靶材 Eu 3N5
钆靶材 Gd 2N,3N,3N5
铽靶材 Tb 3N5
镝靶材 Dy 3N5
钬靶材 Ho 3N,3N5
镱靶材 Yb 3N5
铪靶材 Hf 3N,3N5,3N8,4N
铅靶材 Pb 4N
铋靶材 Bi 4N,5N